హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ కోసం ఏ నిర్వహణ అవసరం?

A చేతితో పెరిగే యంత్రంలోహాలు, ప్లాస్టిక్స్, పెయింట్స్ మరియు తుప్పు వంటి వివిధ పదార్థాల ఉపరితలాలను శుభ్రం చేయడానికి ఉపయోగించే సాధనం. ఇది కలుషితాలను తొలగించడానికి లేజర్ పుంజం ఉపయోగిస్తుంది మరియు శుభ్రమైన ఉపరితలాన్ని వదిలివేస్తుంది. ఈ యంత్రం పోర్టబుల్ మరియు ఆపరేట్ చేయడం సులభం, ఇది తయారీ, ఆటోమోటివ్ మరియు ఏవియేషన్ వంటి వివిధ పరిశ్రమలకు ప్రాచుర్యం పొందింది.

హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ శుభ్రపరిచే యంత్రాల గురించి ఇక్కడ కొన్ని సాధారణ ప్రశ్నలు ఉన్నాయి:

1. హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ ఎలా పనిచేస్తుంది?
హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ ఒక ఉపరితలం వద్ద లేజర్ పుంజంను నిర్దేశించడం ద్వారా పనిచేస్తుంది, ఇది కలుషితాలను ఆవిరి చేస్తుంది మరియు శుభ్రమైన ఉపరితలం వెనుక ఉంటుంది. ఇది నాన్-కాంటాక్ట్ క్లీనింగ్ పద్ధతి, ఇది వేగంగా మరియు సమర్థవంతంగా ఉంటుంది.

2. హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్‌తో ఏ పదార్థాలను శుభ్రం చేయవచ్చు?
హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ లోహాలు, ప్లాస్టిక్‌లు, రాళ్ళు మరియు బట్టలు మరియు కాగితం వంటి సున్నితమైన పదార్థాలను కూడా శుభ్రపరచగలదు.

3. హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ ఉపయోగించడానికి సురక్షితమేనా?
అవును, హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ ఆపరేటర్ రక్షణ గ్లాసెస్ ధరించడం మరియు లేజర్ పుంజంతో కంటి సంబంధాన్ని నివారించడం వంటి సరైన భద్రతా ప్రోటోకాల్‌లను ఆపరేటర్ అనుసరించేంతవరకు ఉపయోగించడం సురక్షితం.

4. హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ కోసం ఏ నిర్వహణ అవసరం?
సరైన పనితీరును నిర్ధారించడానికి యంత్రం యొక్క లెన్స్, నాజిల్ మరియు అంతర్గత భాగాల రెగ్యులర్ క్లీనింగ్ మరియు తనిఖీ అవసరం. ఫిల్టర్లను మార్చడం మరియు శీతలీకరణ వ్యవస్థను క్రమం తప్పకుండా తనిఖీ చేయడం కూడా చాలా ముఖ్యం.

5. సున్నితమైన ఉపరితలాలపై హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ శుభ్రపరిచే యంత్రాన్ని ఉపయోగించవచ్చా?
అవును, హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్‌ను తక్కువ శక్తి సెట్టింగ్‌లకు సర్దుబాటు చేయవచ్చు మరియు పెయింట్ లేదా పూత భాగాలు వంటి సున్నితమైన ఉపరితలాలపై ఉపయోగించవచ్చు.

ముగింపులో, వివిధ ఉపరితలాల సమర్థవంతమైన శుభ్రపరచడానికి హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ ఉపయోగకరమైన సాధనం. సరైన నిర్వహణ మరియు భద్రతా ప్రోటోకాల్‌లతో, ఇది వివిధ పరిశ్రమలకు వేగవంతమైన మరియు ప్రభావవంతమైన శుభ్రపరిచే పరిష్కారాన్ని అందిస్తుంది.

షెన్యాంగ్ హువావే లేజర్ ఎక్విప్మెంట్ మాన్యుఫ్యాక్చరింగ్ కో., లిమిటెడ్ హ్యాండ్‌హెల్డ్ లేజర్ క్లీనింగ్ మెషీన్ల ఉత్పత్తిలో నాయకుడు. మేము వివిధ శుభ్రపరిచే అవసరాలకు అనుగుణంగా వివిధ శక్తి స్థాయిలతో కూడిన మోడళ్ల శ్రేణిని అందిస్తున్నాము. మరింత సమాచారం కోసం Huaweilaser2017@163.com వద్ద మమ్మల్ని సంప్రదించండి.

లేజర్ శుభ్రపరచడంపై 10 శాస్త్రీయ పరిశోధన పత్రాలు:

1. ఎ. బెర్ట్రాండ్, మరియు ఇతరులు. (2018). తుప్పుపట్టిన ఇనుప ఉపరితలం యొక్క లేజర్ శుభ్రపరచడం: ప్రాక్టికల్ ఇంప్లిమెంటేషన్ అండ్ కండిషన్స్ ఆప్టిమైజేషన్. అప్లైడ్ ఫిజిక్స్ ఎ, 124 (2), 168.

2. ఎం. అహ్మద్, మరియు ఇతరులు. (2020). TI ద్వారా ఉపరితల శుభ్రపరచడం: నీలమణి లేజర్ ఎచింగ్. లేజర్స్ ఇన్ ఇంజనీరింగ్, 43 (7-9), 615-626.

3. జి. చెన్, మరియు ఇతరులు. (2019). పల్స్ పేలుడు ఫైబర్ లేజర్ ద్వారా సేంద్రీయ కాలుష్యం యొక్క ఉపరితల శుభ్రపరచడం. ఆప్టికల్ ఇంజనీరింగ్, 58 (6), 1-12.

4. ఎల్. జియోఫ్రాయ్-మాగ్డెలైన్, మరియు ఇతరులు. (2016). శోషక మరియు నానో-కాంపోసైట్‌లను ప్రతిబింబించే లేజర్ శుభ్రపరచడం యొక్క మోడలింగ్ మరియు అనుకరణ. అప్లైడ్ ఫిజిక్స్ ఎ, 122 (9), 1-11.

5. ఎల్. హు, మరియు ఇతరులు. (2019). నానోసెకండ్ పల్సెడ్ లేజర్ వికిరణంతో సిలికాన్ పొర ఉపరితలాల శుభ్రపరచడం. జర్నల్ ఆఫ్ వాక్యూమ్ సైన్స్ & టెక్నాలజీ బి, 37 (6), 062905.

6. టి. సాలో, మరియు ఇతరులు. (2017). నానోసెకండ్ YB ని ఉపయోగించి గ్లాస్ ప్లేట్ యొక్క ఉపరితలంపై పల్వరైజేషన్ మరియు తొలగింపు: KYW లేజర్. ఆప్టిక్స్ & లేజర్ టెక్నాలజీ, 88, 247-252.

7. ఎస్. సౌబియెల్, మరియు ఇతరులు. (2019). అల్ట్రాషార్ట్ లేజర్ పప్పులతో ఉపరితల శుభ్రపరచడం: శుభ్రపరిచే సామర్థ్యంపై లేజర్ పారామితుల ప్రభావం. జర్నల్ ఆఫ్ లేజర్ మైక్రో/నానోఇంజైనరింగ్, 14 (3), 319-328.

8. సి. సన్, మరియు ఇతరులు. (2018). Q- స్విచ్డ్ గ్రీన్ లేజర్ ద్వారా కార్బన్ నానోట్యూబ్ అడవులను శుభ్రపరచడం. జర్నల్ ఆఫ్ లేజర్ మైక్రో/నానోఇంజైనరింగ్, 13 (2), 140-144.

9. వై. సిబిడిస్, మరియు ఇతరులు. (2019). ఉక్కు ఉపరితలాల నుండి కాలుష్య కారకాల యొక్క నానోసెకండ్ మరియు ఫెమ్టోసెకండ్ లేజర్ శుభ్రపరచడం యొక్క తులనాత్మక అధ్యయనం. ఆప్టిక్స్ & లేజర్ టెక్నాలజీ, 113, 47-58.

10. X. యే, మరియు ఇతరులు. (2017). ఫెమ్టోసెకండ్ లేజర్ చేత పెర్ఫ్లోరోఅల్కాక్సీ-కోటెడ్ స్టెయిన్లెస్ స్టీల్ ఉపరితలం నుండి కణాలను తొలగించడం. జర్నల్ ఆఫ్ లేజర్ మైక్రో/నానోఇంజైనరింగ్, 12 (3), 236-240.